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芯片设备

Chip equipment

ITO电子束蒸发台

设备名称:ITO电子束蒸发台

设备厂商:台湾聚昌


工作原理:电子束斑聚焦到介质材料表面,使局部达到蒸发或升华温度,蒸发出来的原子沉积在基片表面,同时增加离子源辅助沉积,实现高密度、高折射率的光学薄膜。

用途:蒸发透明导电薄膜ITO


技术指标:

1.样品尺寸:102*2英寸、21*4英寸、12*6英寸

2.基底刻蚀温度: 室温-350℃可调,控温精度1℃

3.极限真空:2×10-7 torr

4.  蒸发均匀性:<±5%



工艺特点:

1热竞技_王校长代言第三章对健康有益第四起扼杀案。. 可沉积致密、高透过率透明导电薄膜,也可通过控制沉积条件,形成不同形貌的ITO纳米结构;

2. 全自动膜厚仪监控薄膜的生长厚度,精确控制薄膜的蒸镀厚度。



不同氧流量下的ITO的形貌




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